PVD pārklājuma materiāls
-
![4N ZrO2 izsmidzināšanas mērķis ar Cu aizmugures plāksni]()
4N ZrO2 izsmidzināšanas mērķis ar Cu aizmugures plāksniMūsu cirkonija dioksīda izsmidzināšanas mērķi ar atbalsta plāksnēm ir izgatavoti, izmantojot augstas -tīrības cirkonija dioksīda materiālu, kas ir droši savienots ar metāla pamatnes plāksni; šī...Vairāk -
![ZrC izsmidzināšanas mērķis ar Cu aizmugures plāksni]()
ZrC izsmidzināšanas mērķis ar Cu aizmugures plāksniMūsu cirkonija karbīda (ZrC) izsmidzināšanas mērķiem ar vara pamatnes plāksnēm ir spēcīga saikne starp augstas -tīrības ZrC mērķa materiālu un vara pamatni. Šis dizains nodrošina izcilu siltuma un...Vairāk -
![Ta 5at% leģēta ZrC izsmidzināšanas mērķis]()
Ta 5at% leģēta ZrC izsmidzināšanas mērķisPrecīza cirkonija karbīda dopinga ar 5 atomprocentu tantala attiecību ievērojami uzlabo mērķa materiāla augsto -temperatūras izturību, termisko triecienizturību un izturību pret koroziju. Lepojas...Vairāk -
![4N IGZO izsmidzināšanas mērķis]()
4N IGZO izsmidzināšanas mērķisMūsu 4N IGZO izsmidzināšanas mērķi nodrošina stabilāku un efektīvāku izsmidzināšanas veiktspēju. Tie ir specializēti augstākās klases-displeju un pusvadītāju lietojumprogrammām, un tie veicina...Vairāk -
![4N HfO2 mērķis ar Cu aizmugures plāksni]()
4N HfO2 mērķis ar Cu aizmugures plāksni4N HfO₂ izsmidzināšanas mērķis ar vara pamatni izmanto 99,99% tīrības hafnija oksīda materiālu. Integrēts ar vara pamatni, tas nodrošina izcilu siltumvadītspēju un ir ideāli piemērots optiskajam...Vairāk -
![4N HfO2 leģēts ar 2% Ti Target]()
4N HfO2 leģēts ar 2% Ti Target2% Ti-leģētais HfO₂ izsmidzināšanas mērķis ir izgatavots, izmantojot augstas-tīrības hafnija oksīda substrātu, kas precīzi leģēts ar 2% titānu. To raksturo tā kompozīcijas viendabīgums un augstais...Vairāk -
![4N HfO2 izsmidzināšanas mērķis]()
4N HfO2 izsmidzināšanas mērķis4 N augstas -tīrības pakāpes hafnija dioksīda izsmidzināšanas mērķis (99,99% tīrības pakāpe) — piemērots izmantošanai optiskajos pārklājumos, pusvadītājos un precīzās elektronikas iekārtās. Tam ir...Vairāk -
![Pielāgojams 4N oglekļa izsmidzināšanas mērķis]()
Pielāgojams 4N oglekļa izsmidzināšanas mērķisMūsu augstas-tīrības pakāpes 4N oglekļa izsmidzināšanas mērķi ir izgatavoti no 99,99% tīra oglekļa materiāla, un tiem ir zems piemaisījumu līmenis un tie ir ideāli piemēroti lietošanai...Vairāk -
![B4C izsmidzināšanas mērķis]()
B4C izsmidzināšanas mērķisŠim produktam ir izmantotas augstas-tīrības bora karbīda izejvielas, un tam piemīt izcila cietība un spēcīga termiskā stabilitāte, kas padara to ideāli piemērotu pusvadītāju ražošanai, optiskajiem...Vairāk -
![Pielāgoti bora izsmidzināšanas mērķi]()
Pielāgoti bora izsmidzināšanas mērķiMēs piedāvājam augstas{0}}tīrības, blīvus bora mērķus, kas ir lieliski piemēroti pusvadītāju un pārklāšanas procesiem. Mēs atbalstām pasūtījuma izgatavošanu, pamatojoties uz tehniskajiem...Vairāk -
![Pielāgots 3N5 apaļais volframa mērķis]()
Pielāgots 3N5 apaļais volframa mērķisMēs piedāvājam pēc pasūtījuma izgatavotus -apļveida volframa mērķus ar tīrību 3N5 (99,95%). Ražoti, izmantojot pulvermetalurģiju, tiem ir vienmērīga mikrostruktūra, augsts blīvums, un tiem nav...Vairāk -
![Pielāgots augstas tīrības pakāpes Hf izsmidzināšanas mērķis]()
Pielāgots augstas tīrības pakāpes Hf izsmidzināšanas mērķisMēs piedāvājam pēc pasūtījuma izgatavotus-augstas-tīrības hafnija izsmidzināšanas mērķus, kuru tīrība pārsniedz 99,9%, ar vienmērīgu blīvumu un smalku mikrostruktūru. Īpaši izstrādāti pusvadītāju...Vairāk
Mēs esam profesionāli pvd pārklājuma materiālu piegādātāji Ķīnā, kas specializējas augstas kvalitātes pielāgotu pakalpojumu sniegšanā. Mēs sirsnīgi sveicam jūs šeit noliktavā iegādāties pvd pārklājuma materiālu ar atlaidi un saņemt bezmaksas paraugu no mūsu rūpnīcas. Par cenu konsultāciju sazinieties ar mums.